刻蝕機和光刻機的區別

刻蝕機和光刻機相信大家都很陌生吧，這兩者有什麼區別呢？

1、工藝不同：刻蝕機是將矽片上多餘的部分腐蝕掉，光刻機是將圖形刻到矽片上。

2、難度不同：光刻機的難度和精度大於刻蝕機。

電漿刻蝕機，又叫電漿蝕刻機、電漿平面刻蝕機、電漿體刻蝕機、電漿表面處理儀、電漿清洗系統等。電漿刻蝕，是幹法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成電漿體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了電漿或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，電漿清洗實質上是電漿體刻蝕的一種較輕微的情況。進行乾式蝕刻工藝的裝置包括反應室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應室。氣體被匯入並與電漿體進行交換。電漿體在工件表面發生反應，反應的揮發性副產物被真空泵抽走。電漿體刻蝕工藝實際上便是一種反應性電漿工藝。