光刻機到底難在哪裡

1、難在它的製造精度，為了便於形象地解釋，光刻機制造晶片的過程就相當於“沖洗照片”。設計好的積體電路的電路圖相當於照片的“拍攝的內容”，晶圓就相當於“相紙”，光刻機的其它機構就相當於與照相機的“鏡頭機構”。

2、不同的是洗照片是將照片放大呈現到相紙上，製造晶片是將設計的積體電路微縮到晶圓上拇指大小的區域內，而且電路的投影精度達到了奈米量級。

3、光刻機的加工過程，光刻機技術發展已經發展到了紫外光階段，我們就以紫外光為例說明。光刻機加工晶片的過程簡單地講就是，光源提供的紫外光照射到刻著電路設計圖的掩模板上，紫外光透過掩模板後進入物鏡，物鏡將掩模板上的電路圖大比例的縮小後，將電路投影到矽片上，這樣矽片上就刻下設計好的電路圖，這個過程中曝光臺和測量臺處於聯動的狀態。